Einem deutsch-amerikanischen Forschungsteam unter Führung des Leibniz-Instituts für Photonische Technologien (Leibniz-IPHT) ist es gelungen, ein neuartiges Herstellungsverfahren zu entwickeln, mit dem sich automatisiert dünne Halbleiterfilme mit maßgeschneiderten strukturellen und elektronischen Eigenschaften präzise fabrizieren lassen. Die Methode soll es ermöglichen, gezielt Dünnschichten mit kontrollierbaren Wechselwirkungen zwischen Molekülnachbarn und spezifischen Energieniveaus zu erzeugen.

"Das von uns entwickelte Verfahren erlaubt es, auch kristalline Filme abzuscheiden, deren Herstellung mit etablierten Methoden bisher nur mit erheblichem Aufwand verbunden war und häufig zu Oberflächendefekten, wie beispielsweise Brüchen in den organischen Dünnschichten, führte", erläutert der Studienautor Martin Presselt. "Mit dem vorgestellten Prozess können wir diese Oberflächendefekte auf ein Minimum reduzieren und sowohl Monoschichten als auch mehrere Dünnfilmschichten mit individuellen Eigenschaften direkt, gleichmäßig und mit hoher Qualität skalierbar herstellen."

Der neue Ansatz legt die Basis für die Fabrikation von auf Dünnfilmen basierenden neuartigen optoelektronischen Bauelementen mit optimierten Eigenschaften. So können beispielsweise organische photovoltaische Module weiterentwickelt werden, die aus Sonnenlicht effizient elektrische Energie gewinnen, aber auch Dünnschichten, die Sonnenlicht in chemische Energie umwandeln. Auch in der Sensorik und Mikroelektronik kann die Jenaer Entwicklung genutzt werden.

cdi/pm